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CP制樣

搭配溫控液氮冷卻臺(tái),廣泛適用于金屬、非金屬、高分子材料在常溫、低溫下的離子束切割、拋光要求,可用于截面SEM、EBSD拋光制樣、FIB導(dǎo)電鍍膜樣品制備等;

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復(fù)制成功
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